凸版印刷「先進的フォトマスク生産ライン」を中国に

上海にある同社の工場では現在、90nmのフォトマスクを製造しているが、2018年4月には65nmラインに対応させ生産をしていく予定だ。 また、同国内に新しい施設の建設も計画されており、約10億円を投資する予定である。

中国での新しい生産ラインを確立することで、同国での生産量を引き上げ、世界市場でのシェアを40％に拡大することを目指す。

同社は超微細加工技術を駆使して半導体向けのほか、LCD向けや、各種産業用・研究開発用などにも高精細で信頼性の高いフォトマスクを製造・販売している。

（参照）https://www.asiaventurepedia.com/2018/01/18/japans-toppan-to-make-advanced-chip-printing-tech-in-china/